F50 自動マッピング膜厚測定システム
F50自動マッピング膜厚測定システムは、光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステムです。 指定したポイントの膜厚、屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定します。
4インチから300mmまでのシリコン基板に対応し、任意の測定ポイントの指定することが出来ます。
大型ガラス基板、400mmウエハーに対応したオプション製品も
ございます。
主な用途
- フラットパネル セルギャップ、ポリイミド、ITO、ARフィルム、各種光学フィルム
- 半導体 レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン、厚膜レジストなど
- 薄膜太陽電池 CdTe, CIGS, アモルファスシリコンなど
- LED アルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs), リン化ガリウム(GaP)など
プロダクトラインナップ
| モデル | 膜厚測定範囲 | 測定波長範囲 |
|---|---|---|
| F50 | 20nm - 100µm | 380-1050nm |
| F50-UV | 5nm - 40µm | 200-1100nm |
| F50-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
| F50-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm |
| F50-XT | 10µm - 1mm | 1590-1650nm |
Si基板上のSiO2膜の条件での値です。
測定可能範囲は、膜材料、表面粗さ等の条件により異なります。
測定例
膜厚解析FILMapperソフトウエアは、パワフルな独自の膜厚解析アルゴリズムと測定ポイントを簡単に指定出来る機能を有しております。
高速測定が可能で、300mmウエハー上の25ポイント測定を最速21秒で完了します。